* 線性陣列： 1. 支持直接繪制和拾取參照線兩種模式，拾取參照線陣列可跟隨參照線的角度變化； 2. 支持陣列到第二個和最后一個，分別對應屬性面板中的間隔距離和整體距離兩種陣列方式； 3. 列完成后支持在屬性面板中通過“反向”屬性調整陣列方向； 4. 支持在屬性面板中對陣列方式進行調整陣列方式，并根據陣列方式對陣列個數、陣列間距或陣列總距直接修改數值，或通過關聯參數的方式實現參數化控制陣列的屬性； * 操作步驟： 1. 選擇需要陣列的對象，在“助手對話框”中選擇“陣列”命令； 2. 選擇需要的陣列形式：移動到：第二個、最后一個 和陣列數； 3. 在繪圖區域單擊指定移動的起點，再次單擊確定移動的終點； 4. 完成后Esc退出陣列命令；  *****  * 環形陣列： ``` 同線性陣列一樣，也支持間隔角度和整體角度兩種陣列方式且支持在屬性面板中對陣列方式進行調整，也支持對陣列個數、針對半徑、間隔角度/整體角度進行調整或關聯參數。 ``` * 操作步驟： 1. 選擇需要陣列的對象，在“助手對話框”中選擇“環列”命令； 2. 設置需要的參數：旋轉中心、回默認點；陣列的個數以及陣列的方式：間隔角度和整體角度； 3. 單擊確認旋轉的起始射線，再次單擊確認旋轉的角度； 4. 按Esc 退出環列命令。