[https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/chapter8/chapter8.html](https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/chapter8/chapter8.html) [https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/](https://lucky-xiaohu.gitbooks.io/eclipse4-rcp-tutor/content/) e4是位于底層的Equinox、EMF、SWT/JFace和上層的Eclipse應用(Plugin、RCP、RAP等)之間的一個應用開發平臺。 從RCP的角度來說，e4的一個主要目標就是更輕松地編寫和重用組件。 為了實現這個目標，與之前的Eclipse平臺相比，e4帶來的新特性主要包括：： * 基于EMF的應用模型(Application Model)； * 依賴注入 * 基于CSS定義外觀 在 Eclipse 平臺 UI 的早期版本中，workbench 被顯式地硬編碼來布局 workbench 窗口、workbench 頁面、編輯器區域或視圖堆棧。e4 引入了額外的一層，可將UI元素提取和抽象成一個模型。應用程序可以重新配置或擴展這個模型來制作不同的外觀。這個模型也可被動態操縱；模型的改變可以立即反映出 UI 的變化。 e4的模型的特性為： * 基于抽象描述 * 可以在運行時(runtime)更改 * 支持擴展